来源:‣(半导体与模拟电路 → FET管(场效应管))
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三极管穿过PN结有很大损耗,改进方向是让其不穿过。压控电压源。
用电压控制PN结的宽度来控制导电沟道,导电沟道本来就存在,PN结(耗尽层)越宽,沟道越窄,也就是沟道从有到无。
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$V_{gs}<0$ 即反偏保证电流不走gs通道,也就是 $i_g$很小,电阻非常大,一般输入信号都从g极输入,也就是保证了更大的输入电阻; $V_{ds} \gt 0$ ,源极发射载流子(电子),漏极吸引载流子(电子)。
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$V_{gs(off)}$就是夹断电压,加入 $V_{ds}$后也一样。此外, $V_d \gt V_s \gt V_g \Rightarrow V_{ds} \gt0\gt V_{gs}$,这意味着ds处的pn结比gs处的厚,从而形成楔形区域。
预夹断轨迹描述了如果dg间没有夹断, $i_D$随 $V_{ds}$的变化曲线。显然, $V_{dg} = V_{ds} - V_{gs}$,随着 $V_{gs}$ 变大,而 $V_{dg(off)} = V_{gs(off)}$不变,这也意味着 $V_{ds(off)}$要相应地右移。
当$V_{gs}$ 一定, $V_{ds}$ 达到对应的夹断点 $V_{ds(off)}$,一方面根据预夹断曲线 $i_D$随 $V_{ds}$变大,但夹断又导致 $i_D$变小,因此饱和,保持平衡。
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NMOS就是s、d极都是N,p极衬底。
本来不存在导电沟道,N极高浓度电子(掺入五价元素就是为了使电子为多数载流子),增强型——让沟道从无到有,分为g极,s极,d极,p极(一般与s极相接)。
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就像下图
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$0 < V_{gs} \lt V_{gs(th)}$时,通道未开启。